《科技》中芯臉腫 陸製DUV問題多 分析師稱晶片良率糟透了
【時報-台北電】大陸的中芯國際被打臉了嗎?先前大陸的半導體巨頭中芯國際宣布在7奈米
製程有重大突破,甚至能量產,震撼國際,但有產業分析師透露,中芯國際內部人員自曝,
中芯使用大陸自產的DUV曝光機生產7奈米晶片,但因為陸製的DUV問題很多,導致產出的7奈
米晶片良率跟著不佳,沒有成本優勢還容易被投訴。
有公開資料顯示,目前半導體產業中,先進製程包括5奈米、3奈米晶片需使用極紫外光曝
光機(EUV),才有辦法量產;而7奈米以上,包括14、28奈米則是用深紫外光曝光機(DUV)
量產晶片;美國限制製造設備後,大陸企業先進製程的發展被迫按下暫停鍵,大陸的半導體
公司轉而掃購DUV,用DUV來製造7奈米以下的晶片,主要的賣家還是全球最大的光刻機生產公
司艾司摩爾(ASML)。
不過,今年7月,有消息人士透露,美國施壓荷蘭要求ASML限制DUV出口大陸。顯然,美國
不僅要壓制大陸的先進製程發展,還要打壓成熟製程,在要半導體領域全面封鎖大陸發展。
為了突破美國的封鎖線,大陸有公司積極自行研發半導體生產設備,但實際情況卻不甚樂
觀。Dylan Patel向半島電視台表示,若中芯半導體7奈米製程屬實,確實是一項突破,但利
用DUV製作7奈米晶片的話,會缺少一些功能,想要擴大生產規模還需要進一步改良;另外,
有中芯工程師透露,大陸現在自產的DUV問題很多,大陸尚不足以製造出功能良好的DUV曝光
機。
工研院產業科技國際策略發展所研究總監楊瑞臨(Ray Yang)也表示,中芯國際使用DUV製
造7奈米的晶片良率非常低,不具成本優勢;他還表示,由於華為被美國制裁而無法找外國代
工廠,大陸嚴重仰賴中芯生產晶片,但可能主要局限於「非商業性的特殊用途」。(新聞來源
:旺得富理財網 李澍)